低溫(wen)恒溫(wen)槽采用(yong)(yong)低噪聲(sheng)全封閉(bi)壓縮機組,配合低溫(wen)制(zhi)冷劑提供(gong)快速制(zhi)冷控(kong)制(zhi),采用(yong)(yong)高功(gong)率加熱(re)模(mo)塊(kuai)提供(gong)加熱(re)控(kong)制(zhi),根據目(mu)標(biao)溫(wen)度值(zhi)利用(yong)(yong)模(mo)糊(hu)推理、PID算法(fa)等實現恒溫(wen)控(kong)制(zhi)。采用(yong)(yong)軸式(shi)攪拌裝置,同(tong)時(shi)可提供(gong)內(nei)外循環(huan),使溫(wen)度均勻(yun)并提供(gong)第二(er)恒溫(wen)場。
低(di)溫(wen)恒(heng)溫(wen)槽高效快速為科研實驗(yan)、生產(chan)制造等領域提供(gong)高精度恒(heng)溫(wen)、保(bao)溫(wen)環境,可擴展(zhan)第二恒(heng)溫(wen)、保(bao)溫(wen)環境,可被廣泛(fan)應用于物(wu)(wu)理(li)學(xue)、生物(wu)(wu)學(xue)、醫學(xue)、化學(xue)、動物(wu)(wu)學(xue)、法(fa)醫鑒定、食品保(bao)健品等行(xing)業。
本機采用低噪聲風冷(leng)式全封閉壓縮機,制冷(leng)迅速(su)、溫度穩定(ding)性強(qiang)。
工業嵌入式(shi)操作系統(tong),ARM核心控制電(dian)路設計(ji),快速(su)響應操作。
準確的溫度(du)控制算法,集成A級(ji)溫度(du)傳(chuan)感器,采(cai)用(yong)模糊推(tui)理(li)PID算法。
內外(wai)雙循環系(xi)統,可(ke)建立第二恒溫(wen)場(chang),或作為(wei)冷源為(wei)機外(wai)試驗容器降(jiang)溫(wen)。
集成過熱、過電(dian)流(liu)保(bao)護,溫度上(shang)下限提醒(xing)等保(bao)護系(xi)統。
真彩觸摸屏控制系統,操作簡單方(fang)便(bian),功(gong)能(neng)強大。
配有打(da)印機,可即(ji)時(shi)打(da)印實(shi)驗(yan)數據(ju)。
| 型號 | LD-H06系列 | LD-H10系列 | LD-H15系列 | LD-H20系列 | LD-H30系列 |
| 容積 | 6 L | 10 L | 15 L | 20 L | 30 L |